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  [A7443-0160-0001] 制版机双气室两段式高速真空吸气装置
[摘要] 本实用新型提供一种制版机双气室两段式高速真空吸气装置,其特征是橡皮垫下方设置具有适当韧度的薄片垫板,并于橡皮垫底面外围四周增设垫圈,使像皮垫及垫板之间构成另一密闭气室,并另设一真空吸气设备,令垫板自其中央区自动向上隆起,而促使版面先于中央区密着,再逐渐向外圈区辐射吸净残气。优点是避免了牛顿圈现象,使整个操作过程速度快、密着性好。
  [A7443-0086-0002] 定位式拼版机
[摘要] 本实用新型是一种利用光学原理将母片上的文字或图像在一张感光胶片上的不同位置进行感光制版的设备。它由工作台、在工作台上作纵向移动的纵行框架和在纵行框架上作横向移动的曝光箱组成。其特点是应用安装在工作台上的纵向刻度尺和安装在纵行框架上的横向刻度尺以及安装在纵、横向刻度尺上的定位楔键,与铰接在纵行框架和横行框架上的定位键槽进行分格定位曝光。它可应用于具有照像制版工艺的中、小型印刷企业。
  [A7443-0155-0003] 激光双光束全息制版仪

本实用新型涉及一种激光双光束全息制版仪,由主控微机、微电脑控制器、稳压电源、自动准直激光光源、自动快门、扩束光学系统、物镜矩阵、自控磁性双光束旋转系统、双坐标导轨组组成。自动快门位于自动准直激光光源和扩束光学系统之间,物镜矩阵、自控磁性双光束旋转系统扩束光学系统及带感光版的双坐标导轨组自上而下设在扩束光学系统的下方。本实用新型体积小、重量轻、精度高、功能全、全自动、速度快,其制版效率可高出单透镜几倍至几十倍。
  [A7443-0099-0004] 多规格彩色相片扩放附加装置
[摘要] 本实用新型是一种多规格彩色相片扩放附加装置,广泛用于各种规格的彩色相纸组合扩放或单项扩放成多规格,有均匀白边小彩色相片的扩放,适合一般彩扩机配套使用,徽?英寸相纸可扩放1英寸的8张或2英寸的4张,3英寸的2张及各种规格的组合型,本实用新型其特征在于由扩放器座,刻度滑框,承片滑板所组成,结构简单,使用灵活,速度快,节约了原材料,成本降至同一尺寸黑白相水平。
  [A7443-0115-0005] 多功能制版机
[摘要] 本实用新型提出一种印刷制版设备,即一种多功能制版机。由上灯箱、下灯箱、二次曝光箱组成。在上灯箱上方设有一带拷贝灯的拷贝架,在机体下方设有烘干箱,在下灯箱内还有一个供修版修片用的白光灯管。具有软片拷贝、制取固体树脂版、液体树脂版、铜锌版、PS版、丝印版等功能。体积小,重量轻,造价低,功能全。
  [A7443-0012-0006] 一种精密可调定位装置
[摘要] 一种精密可调定位装置,包括二定位机构调节机构和二锁紧机构;调节机构由柔性块右螺母左螺母和调节螺栓构成,左右螺母用调节螺栓靠螺纹配合连接;一定位销固定在柔性块的顶部,整个调节机构靠紧二定位块;二锁紧机构分别包括四个固定螺钉、二个锁定销、锁定板、楔形块、锁紧螺钉、弹簧垫圈,二锁定销插入到柔性块的侧面孔中,通过固定螺钉与锁定板把锁定销固定在柔性块内,楔形块插入二个锁定销间,用锁紧螺钉和弹簧垫圈把楔形块的斜面压紧于锁定销的斜面上,楔形块与柔性块的中间间隙小于楔形块的长度。它解决现有凸轮结构的调节定位机构,精度低,易受摩擦温度影响的技术问题,用于具有高精度定位要求,并且有间距微调要求的物体间。
  [A7443-0117-0007] 非接触式编码曝光头
[摘要] 该曝光头具有一个可与光绘仪绘臂牵引支架联接的联接块,在联接块的下端中部联装有一块其外周圆边上对称制设有多种图素的编码光盘,该光盘可在计算机辅助电路驱动下沿水平面转动,盘面下端距感光胶片有一定间隙。在联接块的一侧设有一个光源镜头,该镜头的光芯与编码光盘上的一种图素同轴设置。工作时通过光绘仪绘臂牵引支架的平移、编码光盘的转动以及光源镜头的开闭,实现在感光胶片上直接绘制图形。
  [A7443-0163-0008] 热上光固化分切装置
[摘要] 一种热上光固化干燥分切装置,包括左、右侧架、上滚轮、下滚轮、远红外线加热装置、远紫外线油墨固化装置、加温装置、测温装置、驱动装置、控温装置与刀模装置。于该上、下滚轮上,至少于其一轮轴上设有加热装置,同时在左、右侧架旁设一远红外线加热装置及远紫外线油墨固化装置,可同时或单独设置,也可同时多组并存。其受电源开关、测温装置及控温装置自动侦测调控,促使加热装置将热均匀传导于滚轮及胶膜上。
  [A7443-0137-0009] 重氮复印机显影部分手动控制装置
[摘要] 本实用新型涉及一种重氮复印机显影部分手动控制装置,它包括A手柄,B手柄,安装在A手柄上的液量调节括板、显影压力括板和显影胶辊,以及供液泵,它还包括安装在手柄上的解锁拨盘,锁定限位钩,以及互锁摆块。供液泵包括供液腔,紧靠并抵压于供液腔的偏心压块,以及摆动偏心轮。本实用新型调节显影液的液量和转印压力十分简单,只要将控制手柄预先拨动到锁定限位钩的锁定位置,再将液量调节括板和显影压力括板转到最佳状态即可。
  [A7443-0003-0010] 用于夹层绝缘膜的光敏组合物及形成带图形夹层绝缘膜的方法
[摘要] 本发明提供一种储藏性能优异且能生产膜厚限度提高了的夹层绝缘膜的光敏组合物。该光敏组合物的特征在于包含:重均分子量为500-200,000的改性聚倍半硅氮烷和光酸产生剂,该改性聚倍半硅氮烷包含由式-[SiR1(NR2)1.5]-表示的基本结构单元,其中每个R1独立地表示含1-3个碳原子的烷基或取代或未取代苯基;每个R2独立地表示氢、含1-3个碳原子的烷基或取代或未取代苯基,最多达50mol%的该基本结构单元被除硅氮烷键之外的连接基取代。
  [A7443-0199-0011] 数字全息两次曝光位相差放大装置
[摘要] 一种数字全息两次曝光位相差放大装置,包括激光光源,其特征在于沿激光光源发出的激光束的前进方向依次有扩束望远镜、第一半透半反镜,该第一半透半反镜的透射光方向经第一全反凹面镜到第二半透半反镜,该第一半透半反镜的反射光方向经第二全反凹面镜到达第二半透半反镜,其后再依次是透镜、探测器和计算机,所述的探测器是一台电荷耦合器CCD,位于透镜的焦距上。将待测样品放在第一半透半反镜和第一全反凹面镜之间的透射光路中,经两次曝光并利用计算机的重构即可获得位相差放大。
  [A7443-0079-0012] 193nm抗蚀剂
[摘要] 一种能够用193nm射线和/或可能的其他射线成像并且能够显影形成显影性能和抗蚀性均得以改善的抗蚀剂结构的酸催化正抗蚀剂组合物,可以通过使用含成像聚合物组分的抗蚀剂组合物得到,成像聚合物组分包含具有单体单元的酸敏性聚合物,这些单体单元具有含远端酸不稳定性部分的侧基。
  [A7443-0170-0013] 高质量光学积分器件
[摘要] 高质量光学积分器件,属于对其结构的改进。其特征是每个积分元件的两端面均为凸透镜,中间介质为长方体结构。每个积分元件通过积木方式错位排列于内六边形框内,且任意相邻元件的中心距相等。该产品对光源进入系统的光进行微分、积分,在系统的出射面得到高均匀性的光能分布,对衍射效应有很好的平滑作用,大大提高光刻分辨力,提高了线条质量,其工艺简单,加工容易,成本低。

  [A7443-0196-0014] 2.5英寸×5英寸UT1倍光刻版
[摘要] 一种用于微细工程领域如集成电路生产的光刻版,适用于Ultra Tech UT 1倍光刻机,其规格为2.5×5英寸。在5×5英寸UT 1倍光刻版中间2.5英寸处设计切割标记,而要用于光刻的图形则分布在由该切割标记所划分成的两个对称区域,两个区域内的图形可以不同。将5×5英寸UT 1倍光刻版按切割标记切割而得到两块2.5×5英寸UT 1倍光刻版。
  [A7443-0165-0015] 彩色喷墨打印用PVC背喷透明胶片
[摘要] 本实用新型提供了一种彩色喷墨打印机用PVC背喷透明胶片,由PVC透明胶片构成,其特征是:在PVC透明胶片的表面设有一层能够速干吸收彩色喷墨打印墨水的透明复合层。上述构成的新型彩色喷墨材料,可使彩色喷墨打印机直接打印彩色图文,且能达到色彩还原准确,清晰度高。实现了数字化无版印卡及制卡全过程无有害气体挥发,无有害溶剂排放的环保制卡技术。
  [A7443-0147-0016] 光刻机环形光栅离轴照明光学系统
  [A7443-0195-0017] 光扫描式超高速激光全息刻录机
  [A7443-0054-0018] 光致抗蚀剂剥离剂组合物
  [A7443-0111-0019] 多功能便携式照相制版机
  [A7443-0201-0020] 铝塑复合版基预涂感光版
  [A7443-0148-0021] 亚微米光刻机的调焦装置
  [A7443-0187-0022] 电路板蚀刻机输送装置
  [A7443-0071-0023] 利用高酸碱值浸润流体的浸润式微影技术的方法与系统
  [A7443-0052-0024] 光刻设备和设备制造方法
  [A7443-0172-0025] 全自动PS版烘版机
  [A7443-0179-0026] 曝光机的能量积算控制器
  [A7443-0097-0027] 多功能感光树脂制版机
  [A7443-0181-0028] 曝光机紫外线灯反射罩的装置
  [A7443-0205-0029] 透明喷墨打印胶片
  [A7443-0028-0030] 采用光刻和干刻制造碳纳米管多层图案的方法
  [A7443-0192-0031] 氧化铁光刻掩膜版

  [A7443-0107-0032] 彩色放大校色打样机
  [A7443-0142-0033] 一种制版工艺中的冲洗装置
  [A7443-0144-0034] 一种紫外(i线)投影光刻光学透镜系统
  [A7443-0136-0035] 一种接近式缩小光刻曝光台
  [A7443-0159-0036] 大面积步进扫描式曝光机
  [A7443-0045-0037] 光刻设备及器件制造方法
  [A7443-0070-0038] 激光掩模以及使用该激光掩模的结晶方法
  [A7443-0098-0039] 晒图机自动卷图装置
  [A7443-0019-0040] 一种化学放大型正光刻胶组合物
  [A7443-0004-0041] 形成防反射膜的组合物
  [A7443-0001-0042] 图形尺寸校正装置和图形尺寸校正方法
  [A7443-0061-0043] 有中间检查薄膜层的改进的光学掩模
  [A7443-0075-0044] 光刻装置、照明系统和用于旋转强度分布的光学元件
  [A7443-0085-0045] 滚筒式照排机的同步装置
  [A7443-0053-0046] 正相抗蚀膜的剥离方法、曝光用掩模的制造方法以及抗蚀剂剥离装置
  [A7443-0152-0047] 双面PS版感光层涂布装置
  [A7443-0011-0048] 光敏树脂组合物及其用途
  [A7443-0185-0049] 一种专用于微流控芯片制作的光刻机
  [A7443-0120-0050] 重氮复印机显影装置分流式压力刮板
  [A7443-0048-0051] 曝光装置及器件制造方法

  [A7443-0059-0052] 用于小线条印刷的光刻方法
  [A7443-0135-0053] 铝版基平印预涂双面感光版
  [A7443-0044-0054] 一种调焦调平检测装置
  [A7443-0066-0055] 光刻装置及其应用方法
  [A7443-0121-0056] 多功能快速拷贝制版机
  [A7443-0105-0057] 银盐印版制版机
  [A7443-0037-0058] 将衬底在工作台上对齐的方法
  [A7443-0091-0059] 连晒机单片微电脑控制箱
  [A7443-0194-0060] 一种用于珂罗版印刷的印版
  [A7443-0197-0061] 图形发生器
  [A7443-0093-0062] 液体树脂版制版机
  [A7443-0127-0063] 一种简易竖卧式投影、照相、制版机
  [A7443-0178-0064] 等量光扫平版晒版机
  [A7443-0081-0065] 电子符合型中文光学并行自动照相排字机
  [A7443-0161-0066] 新型的网板制版机
  [A7443-0076-0067] 光刻装置及器件制造方法
  [A7443-0175-0068] 日光曝晒制版装置
  [A7443-0036-0069] 用于中间层电介质的光敏组合物和形成图案化中间层电介质的方法
  [A7443-0139-0070] 一种制版清洗工艺中的洗刷装置
  [A7443-0038-0071] 制作金属相片的方法

  [A7443-0083-0072] 原子印章半自动立式制版照相机
  [A7443-0058-0073] 用于制造曝光结构的方法和装置
  [A7443-0131-0074] 深亚微米X射线光刻装置
  [A7443-0064-0075] 化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物
  [A7443-0043-0076] 图形曝光方法以及图形曝光装置
  [A7443-0190-0077] 单面防焊曝光机
  [A7443-0024-0078] 一种应用于光学光刻系统的孔径盘
  [A7443-0047-0079] 曝光装置及方法
  [A7443-0031-0080] 图形形成方法和半导体器件的制造方法
  [A7443-0082-0081] 原子印章数控数显制版机
  [A7443-0149-0082] 亚微米光刻机光栅衍射同轴对准装置
  [A7443-0005-0083] 使印刷电路板曝光的装置
  [A7443-0029-0084] 光刻机成像质量的检测方法
  [A7443-0035-0085] 可聚合组合物,聚合物,抗蚀剂及蚀刻方法
  [A7443-0078-0086] 多层分划板
  [A7443-0169-0087] 超高分辨率超高速激光全息刻录机
  [A7443-0146-0088] 多功能拷贝机
  [A7443-0060-0089] 剥离液
  [A7443-0068-0090] 光刻胶剥离剂组合物
  [A7443-0200-0091] 曝光工序工作版遮光装置

  [A7443-0015-0092] 光掩膜及修补缺陷的方法
  [A7443-0096-0093] 重氮复印机差动式分离装置
  [A7443-0124-0094] 网版印刷自动制版设备
  [A7443-0087-0095] 非接触式光刻曝光光学系统
  [A7443-0002-0096] 高耐热性负型光敏树脂组合物
  [A7443-0188-0097] 曝光设备的冷却装置
  [A7443-0189-0098] 环保水溶性柔版曝光洗版机
  [A7443-0182-0099] 曝光机的近似平行光控制增益结构
  [A7443-0206-0100] 具有双嵌附层的减光型相移光罩
  [A7443-0138-0101] 垂直式蚀刻机的PC板传动装置
  [A7443-0167-0102] 投影光刻成像滤波装置
  [A7443-0202-0103] 一种圆柱面光栅光刻刻划机
  [A7443-0055-0104] 用于将图案转印到物体的设备
  [A7443-0157-0105] 感光性树脂版制版机洗版机构
  [A7443-0154-0106] 一种制版清洗工艺中洗版刷的驱动机构
  [A7443-0018-0107] 曝光装置和定位方法
  [A7443-0132-0108] 一种用于制作量子线超微细图形的光刻掩模
  [A7443-0143-0109] 一种制版工艺中的曝光装置
  [A7443-0113-0110] 绘图专用曝光孔头
  [A7443-0014-0111] 形成和修正具有间隙缺陷的光刻版的方法

  [A7443-0119-0112] 一种多用途照相制版机
  [A7443-0040-0113] 正型抗蚀剂组合物
  [A7443-0032-0114] 确定光刻装置的投影系统的像差的方法
  [A7443-0166-0115] 亚微米光刻机光学预对准装置
  [A7443-0116-0116] 明暗室照相制版一体机
  [A7443-0006-0117] 投影光学系统、微影方法、曝光装置及使用此装置的方法
  [A7443-0164-0118] 台式曝光烘干装置
  [A7443-0123-0119] 轻便节能晒版箱
  [A7443-0183-0120] 电路板输送制程挡水装置
  [A7443-0022-0121] 正性光刻胶的制作方法
  [A7443-0151-0122] 分辨力自增掩模板
  [A7443-0150-0123] 光刻机相位光栅离轴照明光学系统
  [A7443-0101-0124] 光刻机的自动调焦装置
  [A7443-0102-0125] 大面积紫外光刻(曝光)机的光学系统
  [A7443-0010-0126] 凸起物和间隔物的形成及用于形成它们的辐射敏感树脂组合物
  [A7443-0042-0127] 薄膜工件的切割方法
  [A7443-0090-0128] 光印绘图笔
  [A7443-0207-0129] 蚀刻系统及其纯水添加装置
  [A7443-0072-0130] 氰基金刚烷基化合物和聚合物和含有它们的光致抗蚀剂
  [A7443-0198-0131] 黄光微影设备曝光机之可调节型掩膜版吸附台

  [A7443-0088-0132] 光热制版机
  [A7443-0153-0133] 彩色显示管或彩色显像管曝光设备上的滤光片活动装置
  [A7443-0007-0134] 激光退火的制程光罩以及利用激光退火形成多晶系膜层的方法
  [A7443-0156-0135] 一种制版机台面装置
  [A7443-0133-0136] 一种夹板式X光光刻对准装置
  [A7443-0112-0137] 冷光源晒版机
  [A7443-0193-0138] 印刷电路板显影机除泡装置
  [A7443-0177-0139] 曝光机曝光框的掀启装置
  [A7443-0158-0140] 用于地图注记的感光胶片
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  [A7443-0162-0143] 制造印章印面的曝光装置
  [A7443-0130-0144] 制版机
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